SILICONE-ACIDE POLYAMIQUE DONT ON PEUT FORMER UN DESSIN PHOTOGRAPHIQUE, PROCEDE POUR EN REVETIR UN SUBSTRAT ET SUBSTRAT REVETU D'UN TEL ACIDE

UN SILICONE-ACIDE POLYAMIQUE DONT ON PEUT FORMER UN DESSIN PHOTOGRAPHIQUE PEUT ETRE APPLIQUE PAR CENTRIFUGATION SOUS FORME D'UN REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT PUIS ETRE UTILISE EN ASSOCIATION AVEC UNE PHOTORESERVE COMME REVETEMENT ANTIREFLECHISSANT OU COMME SILICONE-POLYIMIDE FORMANT UN DESSIN; LE...

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Hauptverfasser:	DONALD ALLEN BOLON, JOHN EDWARD HALLGREN, VICTORIA JEAN EDDY
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	UN SILICONE-ACIDE POLYAMIQUE DONT ON PEUT FORMER UN DESSIN PHOTOGRAPHIQUE PEUT ETRE APPLIQUE PAR CENTRIFUGATION SOUS FORME D'UN REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT PUIS ETRE UTILISE EN ASSOCIATION AVEC UNE PHOTORESERVE COMME REVETEMENT ANTIREFLECHISSANT OU COMME SILICONE-POLYIMIDE FORMANT UN DESSIN; LE SILICONE-ACIDE POLYAMIQUE PEUT ETRE UTILISE AVEC UN COLORANT ABSORBANT OU ETRE TEINTE AVEC UN COLORANT ORGANIQUE POUR FORMER DES FILTRES COLORES LORSQU'ON L'APPLIQUE A UN SUBSTRAT TRANSPARENT. Photopatternable silicone polyamic acid can be spun onto a substrate and thereafter used in combination with a photoresist as an antireflective coating or as a patterned silicone polyamide. The silicone polyamic acid can be used with an absorbing dye, or it can be tinted with an organic dye to provide color filters when applied on a transparent substrate.