PLASMA RESISTANT COATING, RELATED PRODUCTION METHOD AND USES

A method of producing coated substrates resistant to plasma corrosion and a related coating are provided. The method comprises depositing, over at least a portion of a substrate, an yttrium-containing plasma resistant coating through a process of chemical deposition in vapour phase, preferably, through Atomic Layer Deposition (ALD). In some configurations, the plasma resistant coating is formed with a mixture film composed of a mixture of an aluminium oxide compound and an yttrium oxide compound, for example. In some instances, a multilayer laminate structure comprising said mixture films alternating with deposition films composed of a metal fluoride compound is formed. A coated component for use in a plasma processing apparatus and a method for improving resistance of a substrate to plasma corrosion are further provided. (57) TIIVISTELMÄ Keksintö koskee menetelmää pinnoitettujen, plasman aiheuttamaa korroosiota kestävien substraattien ja vastaavan pinnoitteen valmistamiseksi. Menetelmä käsittää yttriumia sisältävän plasmankestävän pinnoitteen kerrostamisen ainakin osaan substraatista kemiallisella kaasufaasipinnoitusmenetelmällä, edullisesti atomikerroskasvatuksella (ALD), Joissakin muodoissa plasmankestävä pinnoite muodostetaan seoskalvosta, joka koostuu esimerkiksi alumiinioksidiyhdisteen ja yttriumoksidiyhdisteen seoksesta. Joissakin tapauksissa muodostetaan monikerroksinen laminaattirakenne, joka käsittää mainittuja scoskalvoja, jotka vuorottelevat metallifluoridiyhdisteestä koostuvien pinnoituskalvojen kanssa. Keksintö käsittää lisäksi pinnoitetun komponentin käytettäväksi plasmankäsittelylaitteessa ja menetelmän substraatin kestävyyden parantamiseksi plasman aiheuttamaa korroosiota vastaan.