Proceso para la fabricación de grafeno usando tecnología de plasma

La presente invención se refiere a un proceso, reactor y sistema para producir nanoestructuras bidimensionales autónomas, utilizando un entorno de plasma excitado por microondas. El proceso se basa en inyectar, en un reactor, una mezcla (9) de gases y precursores en régimen de corriente. La corriente es sometida a un campo eléctrico de onda superficial (5), excitado mediante el uso de potencia de microondas (7) que se introduce en un aplicador de campo (6), generando plasmas de alta densidad energética (2,3,4), que se rompen. los precursores en sus constituyentes atómicos y/o moleculares. El sistema comprende un reactor de plasma con una zona de lanzamiento de ondas superficiales, una zona transitoria con un área de sección transversal progresivamente creciente y una zona de nucleación. El reactor de plasma junto con una fuente de radiación infrarroja (11) proporciona un ajuste controlado de los gradientes espaciales, de la temperatura y de la velocidad de la corriente de gas. La mayoría de las muestras de nanoestructuras bidimensionales obtenidas tienen un espesor de una sola capa atómica, además el proceso y el sistema permiten obtener tasas de producción de grafeno del orden de un gramo por hora y superiores. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)