Método para la estructuración de un sustrato

Método para la estructuración de un sustrato, en particular la estructuración por medio de grabado selectivo en la industria de sustratos de semiconductores e IC, en donde se llevan a cabo las siguientes etapas - proporciona un sustrato(2), - aplicar una capa semilla de titanio (4) al sustrato (2),...

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1. Verfasser: LANG, Marcus Elmar
Format: Patent
Sprache:spa
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