Dispositivo de filtración y proceso de formación del mismo
Un dispositivo de filtración que comprende una primera y una segunda placa de soporte, en el que la primera y segunda placas de soporte están formadas por fluoruro de polivinilideno, cada una de las placas de soporte primera y segunda tienen una primera superficie enfrentada y una segunda superficie...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Un dispositivo de filtración que comprende una primera y una segunda placa de soporte, en el que la primera y segunda placas de soporte están formadas por fluoruro de polivinilideno, cada una de las placas de soporte primera y segunda tienen una primera superficie enfrentada y una segunda superficie opuesta a la primera superficie de cada soporte placa, las placas de soporte primera y segunda tienen cada una al menos un puerto formado desde la primera superficie hasta la segunda superficie de cada placa de soporte respectivamente, en la que la primera superficie de la primera placa de soporte está unida por calor a una membrana porosa seleccionada del grupo que consiste de polisulfona, polietersulfona, mezclas de los mismos y copolímeros de los mismos y la primera superficie de la primera placa de soporte está unida por calor a la primera superficie de la segunda placa de soporte alrededor de una periferia de la primera superficie, en la que la periferia es un área fuera del área donde la primera superficie de la primera placa de soporte está unida por calor a la membrana porosa, proporcionando así una membrana porosa sellada integralmente pase a la primera placa de soporte y una segunda placa de soporte herméticamente sellada integralmente a la primera placa de soporte.
A laminate is provided comprising at least one polysulfone and/or polyethersulfone porous membrane heat bonded to a polyvinylidene fluoride substrate. |
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