Esquema híbrido de plasma/láser in situ

Un aparato de plasma de corriente continua que comprende: un alojamiento (12); un cátodo (14, 14') dispuesto en dicho alojamiento (12); un canal anular (18) generalmente dispuesto adyacente a dicho cátodo (14, 14'), configurado dicho canal anular (18) para transmitir de forma fluida un gas de plasma (20); un ánodo (16) colocado operativamente adyacente a dicho cátodo (14, 14'), para permitir una comunicación eléctrica entre los mismos, suficiente para encender un chorro de plasma (24) dentro del gas de plasma (20); una fuente de precursor que contiene un material precursor; una línea de salida de precursor (30) que se extiende a través de al menos una porción de dicho cátodo (14, 14'), terminando dicha línea de salida de precursor (30) en al menos una abertura (34), en el que dicho chorro de plasma (24) es capaz de arrastrar, fundir y depositar al menos algunos de dichos materiales precursores sobre un objetivo; caracterizado por que dicha al menos una abertura (34) está desplazada con respecto a una punta (28) de dicho cátodo (14, 14') para evitar en general la deposición de dicho material precursor en dicha punta (28) de dicho cátodo (14, 14'). A method and apparatus for forming layers on a target. The apparatus and method employ a direct current plasma apparatus to form at least one layer using a plasma jet containing precursors. In some embodiments, the direct current plasma apparatus utilizes axial injection of the precursors through the cathode (in an upstream and/or downstream configuration) and/or downstream of the anode. In some embodiments, the direct current plasma apparatus can comprise a laser source for remelting the layer using a laser beam to achieve in-situ densification thereof.