ELEMENTOS PARA ESTAMPAR EN RELIEVE Y APLICACION DE ADHESIVO
Un elemento con diseño para usar en un proceso de estampado en relieve y de aplicación de adhesivo, teniendo dicho elemento con diseño cuya superficie comprende un material, un diseño dispuesto sobre el mismo, comprendiendo dicho material un polímero y caracterizado por que dicho material tiene una...
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Format: | Patent |
Sprache: | spa |
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Zusammenfassung: | Un elemento con diseño para usar en un proceso de estampado en relieve y de aplicación de adhesivo, teniendo dicho elemento con diseño cuya superficie comprende un material, un diseño dispuesto sobre el mismo, comprendiendo dicho material un polímero y caracterizado por que dicho material tiene una dureza Shore A superior a 70, y tiene una energía de superficie crítica inferior a 30 x 10-3 N/m (30 dinas/cm).
A patterned element for use in an embossing and adhesive application process. The patterened element comprises a material having an pattern disposed thereon, wherein the material comprises a polymer and has a Shore A hardness of greater than about 70, and has a critical surface energy of less than about 30 dynes/cm. |
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