DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUSTRATO
EN UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO (30) CON UNA FUENTE (43) DE CORRIENTE ALTERNA, QUE SE UNE CON DOS CATODOS (58,59), UNO DE LOS POLOS DE LA FUENTE (43) SE CONECTA A UN CATODO (58) Y EL OTRO POLO AL OTRO CATODO (59) A TRAVES DE CONDUCCIONES (41,42) DE ABASTECIMIENTO. CADA UNO DE AM...
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Format: | Patent |
Sprache: | spa |
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Zusammenfassung: | EN UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO (30) CON UNA FUENTE (43) DE CORRIENTE ALTERNA, QUE SE UNE CON DOS CATODOS (58,59), UNO DE LOS POLOS DE LA FUENTE (43) SE CONECTA A UN CATODO (58) Y EL OTRO POLO AL OTRO CATODO (59) A TRAVES DE CONDUCCIONES (41,42) DE ABASTECIMIENTO. CADA UNO DE AMBOS CATODOS (58,59) DISPUESTOS EN UN COMPARTIMENTO (32'',40) DE UNA MULTIPLICIDAD DE APLICACIONES VECINAS, FORMANDO CONJUNTAMENTE UNA CAMARA (31) DE VACIO, HA PREVISTO COMPARTIMENTOS (32 HASTA 40'') QUE SE UNEN UNO CON OTRO A TRAVES DE UN PASO (60), DONDE AMBOS COMPARTIMENTOS (32'',40) QUE MUESTRAN CATODOS (58,59) QUE SE UNEN CON LA FUENTE (43) DE CORRIENTE ALTERNA SE DISPONEN DE FORMA SEPARADA UNO CON OTRO A TRAVES DE MULTIPLES COMPARTIMENTOS (33 HASTA 39 Y 33'' HASTA 38''), QUE ESTAN EQUIPADOS AL MENOS PARCIALMENTE CON CADA UNO DE LOS OTROS CATODOS (61 HASTA 66) DISPONIENDO DE ABASTECIMIENTO DE CORRIENTE SEPARADA.
Apparatus for film coating a substrate (2), with two cathodes (30,31) each connected to one pole of an alternating current source (15) and each in a separate compartment (4,12) forming a single vacuum chamber (3) together with a number of adjacent compartments (4 to 12') connected by a through-passage (32). The two compartments (4,12) with cathodes (30,31) connected to the current source (15) are separated by several compartments (5 to 11 and 5' to 10') at least partly equipped with an additional sputter cathode (33 to 38) each with separate current supply. |
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