DISPOSITIVO DE MEZCLA DE UN GAS SECUNDARIO EN UN GAS PRINCIPAL
Procedimiento para mezclar un gas secundario con un gas principal, con la ayuda de inyectores, que comprende las etapas siguientes: - se forma una corriente principal de dicho gas principal; - se regula el caudal total de gas secundario a inyectar en función de un valor de consigna; - se inyecta en...
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Format: | Patent |
Sprache: | spa |
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Zusammenfassung: | Procedimiento para mezclar un gas secundario con un gas principal, con la ayuda de inyectores, que comprende las etapas siguientes: - se forma una corriente principal de dicho gas principal; - se regula el caudal total de gas secundario a inyectar en función de un valor de consigna; - se inyecta en una zona de inyección de la indicada corriente principal, extendiéndose la indicada zona de inyección según la dirección del eje de la mencionada corriente principal, el indicado caudal total de gas secundario con la ayuda de una pluralidad de inyectores dispuestos en la mencionada zona de inyección para formar una pluralidad de chorros de gas secundario, teniendo cada inyector una gama de caudales óptima; y - se reparte el indicado gas secundario entre al menos una parte de los indicados inyectores de tal forma que cada inyector alimentado funcione en su gama de caudales óptima. |
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