COMPOSICIONES DE DESPRENDIMIENTO QUE CONTIENEN OTROS CORONA

LA ADICION DE LIGANDOS PARA QUELAR IONES DEL GRUPO I Y II A SOLVENTES ORGANICOS UTILIZADOS PARA LA ELIMINACION DE LA FOTORESISTENCIA Y LA LIMPIEZA POR ACIDO DE LOS CONDUCTORES, REFORZANDO LA DURACION SUBYACENTE DE ESTOS SOLVENTES. ADEMAS, SE REDUCE LA CONTAMINACION DE IONES MOVILES DE CIRCUITOS INTE...

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1. Verfasser: OBENG, YAW SAMUEL
Format: Patent
Sprache:spa
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Beschreibung
Zusammenfassung:LA ADICION DE LIGANDOS PARA QUELAR IONES DEL GRUPO I Y II A SOLVENTES ORGANICOS UTILIZADOS PARA LA ELIMINACION DE LA FOTORESISTENCIA Y LA LIMPIEZA POR ACIDO DE LOS CONDUCTORES, REFORZANDO LA DURACION SUBYACENTE DE ESTOS SOLVENTES. ADEMAS, SE REDUCE LA CONTAMINACION DE IONES MOVILES DE CIRCUITOS INTEGRADOS PROCESADOS CON LIGANDOS DE SOLVENTES MODIFICADOS ORGANICAMENTE.