POLIOXIALQUILENPOLIETERPOLIOLES DE BAJA INSATURACION

AHORA SE DISPONE UN POLIMERO DE POLIETER POLIOXIALQUILENO REACTIVO CON ISOCIANATO QUE TIENE UNA ESTRUCTURA COMO SIGUE: EL NUCLEO DE UN COMPUESTO INICIADOR, UN BLOQUE INTERNO DE GRUPOS DE OXIPROPILENO, Y UN SEGUNDO BLOQUE DE GRUPOS DE OXIALQUILENO; EL BLOQUE INTERNO DE GRUPOS DE OXIPROPILENO ESTANDO ENTRE EL NUCLEO DEL INICIADOR Y EL SEGUNDO BLOQUE, EL SEGUNDO BLOQUE CONTENIENDO AL MENOS ALGUNOS GRUPOS DE OXIALQUILENO DERIVADOS DE AL MENOS UN OXIDO DE ALQUILENO C{SUB,4} O SUPERIOR. ESTA ESTRUCTURA PERMITE FABRICAR UN POLIMERO DE POLIETER CON UN BAJO GRADO DE INSATURACION, AJUSTAR EL GRADO DE HIDROFOBICIDAD A UN AMPLIO RANGO DE VALORES, Y PUEDE SER FABRICADA SIMPLEMENTE SIN DEPENDER DEL USO DE CATALIZADORES EXOTICOS. LA CANTIDAD DEL BLOQUE INTERNO DE GRUPOS DE OXIPROPILENO ES VENTAJOSAMENTE DEL 25 POR CIENTO AL 80 POR CIENTO BASADO EN EL PESO DE TODOS LOS GRUPOS DE OXIALQUILENO Y EL COMPUESTO INICIADOR. LA CANTIDAD DEL SEGUNDO BLOQUE QUE CONTIENE UN OXIDO DE ALQUILENO C{SUB,4} O SUPERIOR DEBERIA SER EFICAZ PARA REDUCIR LA INSATURACION DEL POLIOL DE POLIETER A 0,06 MEQ KOH/G DE POLIOL O MENOS. There is now provided an isocyanate reactive polyoxyalkylene polyether polymer having a structure as follows: the nucleus of an initiator compound, an internal block of oxypropylene groups, and a second block of oxyalkylene groups; the internal block of oxypropylene groups being between the nucleus of the initiator and the second block, the second block containing at least some oxyalkylene groups derived from at least a C4 or higher alkylene oxide. This structure allows one to make a polyether polymer having a low degree of unsaturation, adjust the degree of hydrophobicity to a wide range of values, and may be simply manufactured without depending upon the use of exotic catalysts. The amount of the internal block of oxypropylene groups is advantageously from 25 weight percent to 80 weight percent based on the weight of all oxyalkylene groups and initiator compound. The amount of the second block containing a C4 or higher alkylene oxide should be effective to reduce the unsaturation of the polyether polyol to 0.06 meq KOH/g of polyol or less.