UN METODO DE PULIMENTO QUIMICO-MECANICO DE UN SUSTRATO DE COMPONENTE ELECTRONICO Y COMPOSICION DE PULIMENTO PARA EL MISMO

SE DIFUNDO UN METODO DE PULIDO MECANICO-QUIMICO DE UN SUBSTRATO DE COMPONENTE ELECTRONICO. EL METODO INCLUYE LOS PASOS SIGUIENTES: OBTENCION DE UN SUBSTRATO QUE TENGA AL MENOS DOS CARACTERISTICAS SOBRE EL MISMO O EN EL MISMO, QUE TENGA UN INDICE DE ATAQUE CON ACIDO DIFERENTE CON RESPECTO A UN ACIDO...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	CARR, JEFFREY WILLIAM, KAUFMAN, FRANK BENJAMIN, PASCO, ROBERT WILLIAM, DAVID, LAWRENCE DANIEL, RODBELL, KENNETH PARKER, NENADIC, ANTON, PATRICK, WILLIAM JOHN, GUTHRIE, WILLIAM LESLIE
Format:	Patent
Sprache:	spa
Schlagworte:	ADHESIVES BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY DYES ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS POLISHES POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH SEMICONDUCTOR DEVICES SKI WAXES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	SE DIFUNDO UN METODO DE PULIDO MECANICO-QUIMICO DE UN SUBSTRATO DE COMPONENTE ELECTRONICO. EL METODO INCLUYE LOS PASOS SIGUIENTES: OBTENCION DE UN SUBSTRATO QUE TENGA AL MENOS DOS CARACTERISTICAS SOBRE EL MISMO O EN EL MISMO, QUE TENGA UN INDICE DE ATAQUE CON ACIDO DIFERENTE CON RESPECTO A UN ACIDO PARA GRABAR PARTICULAR; Y PONER EN CONTACTO EL SUBSTRATO CON UNA ALMOHADILLA DE PULIMENTADO A LA VEZ QUE SE APLICA AL SUBSTRATO UNA LECHADA CONTENIENDO EL ACIDO PARA GRABAR EN LA QUE LA LECHADA INCLUYE PARTICULAS ABRASIVAS, UNA SAL QUELATADA DE METAL DE TRANSICION Y UN DISOLVENTE PARA LA SAL. EL PULIMENTADO MECANICO-QUIMICO DA LUGAR A QUE AL MENOS DOS CARACTERISTICAS SEAN COPLANARES SUSTANCIALMENTE. SE DIFUNDE IGUALMENTE LA LECHADA DE PULIMENTADO MECANICO-QUIMICO.