PROCEDIMIENTO PARA EL AISLAMIENTO DIRECTO DE CAPTOPRIL

SE EXPONE UN PROCESO PARA AISLAMIENTO DIRECTO DEL CAPTOPRIL DESDE UN SUSTRATO DE LA FORMULA; DONDE R ES UN ALCALI O UN ALCOXI MAS BAJO, EL SUSTRATO SE TRATARA PRIMERAMENTE CON UN HIDROXIDO METALICO DE ALCALI ACUOSO CAPAZ DE FORMAR UNA SAL SOLUBLE EN EL AGUA DEL SUSTRATO, DONDE EL HIDROXIDO METALICO DE ALCALI TIENE UNA CONCENTRACION DE 4 M O MAYOR. DESPUES SE NEUTRALIZA EL SUSTRATO, PREFERIBLEMENTE CON UN ACIDO MINERAL. MEDIANTE ESTE PROCESO, EL CAPTORIL SE CRISTALIZARA DIRECTAMENTE DE UNA SOLUCION ACUOSA, EVITANDO LA POSIBILIDAD ANTERIOR DE UTILIZAR DISOLVENTES ORGANICOS Y UN TRATAMIENTO DE ZINC PARA REDUCIR LOS NIVELES DE SULFURO Y DE IMPUREZAS DISULFURICAS, RESPECTIVAMENTE. EN UNA INCORPORACION ALTERNATIVA, SE EFECTUARA LA NEUTRALIZACION UTILIZANDO UNA RESINA DE INTERCAMBIO DE IONES SUMINISTRADORES DE HIDROGENO. A process is disclosed for direct isolation of captopril from a substrate of the formula wherein R is lower alkyl or lower alkoxy. In this process, the substrate is first treated with an aqueous alkali metal hydroxide capable of forming a water-soluble salt of the substrate, wherein the alkali metal hydroxide has a concentration of 4 M or greater. The substrate is then neutralized, preferably with a mineral acid. By this process, captopril may be directly crystallized from an aqueous solution, avoiding the prior art use of organic solvents and zinc treatment to reduce levels of sulfide and disulfide impurities, respectively. In an alternative embodiment, neutralization is carried out by use of a hydrogen-supplying ion exchange resin.