SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
A semiconductor device includes a barrier layer (160) on a channel layer (140), a gate electrode (GA) on the barrier layer, a gate semiconductor layer (170) between the barrier layer and the gate electrode, and a source (SR) and a drain (DR) spaced apart from each other on the channel layer. The bar...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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