MASK PRINTING METHOD WITH OPTIMIZED PARAMETERS AND DEVICE

Zur Bestimmung von optimierten Parameterwerten eines Maskendruckverfahrens wird nach dem Druckvorgang in einem Testverfahren ein Qualitätswert für das Substrat bestimmt, und es wird ein Bild von der Oberseite der Schablone erzeugt. Eine Relation zwischen dem Parameter, dem Qualitätswert und dem Schablonenbild wird ermittelt, und mithilfe der Relation wird ein optimierter Wert für den Parameter bestimmt. Beim Druckvorgang wird der optimierte Wert eingestellt und unter Verwendung des jeweiligen Schablonenbilds das Druckverfahren überwacht, wobei auf das Testverfahren verzichtet werden kann. For determining optimized parameter values of a mask-printing process, a quality value for the substrate is determined in a testing process following the printing operation, and an image of the upper side of the template is generated. A relationship between the parameter, the quality value and the template image is ascertained, and the relationship is used to determine an optimized value for the parameter. In the printing operation, the optimized value is set and the printing process is monitored by using the respective template image, dispensing with the need for the testing process.