METHOD AND DEVICE FOR FORMING AN EDGE STRUCTURE OF A SEMICONDUCTOR COMPONENT
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Randstruktur eines Halbleiterbauelements, aufweisend die Schritte: Bereitstellen eines Halbleiterkörpers (1), der wenigstens zwei zueinander beabstandete Hauptflächen (3, 4) mit jeweils einem Rand (5, 6) aufweist, zwischen welchen Rändern (5...
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Hauptverfasser: | , , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
Schlagworte: | |
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