METHOD AND DEVICE FOR FORMING AN EDGE STRUCTURE OF A SEMICONDUCTOR COMPONENT

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Randstruktur eines Halbleiterbauelements, aufweisend die Schritte: Bereitstellen eines Halbleiterkörpers (1), der wenigstens zwei zueinander beabstandete Hauptflächen (3, 4) mit jeweils einem Rand (5, 6) aufweist, zwischen welchen Rändern (5...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GAMON, Tobias, SOMMER, Sebastian, BARTHELMESS, Reiner, KELLNER-WERDEHAUSEN, Uwe
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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