LOCALISED SURFACE TREATMENT INSTALLATION AND METHOD FOR INDUSTRIAL PARTS

Station de traitement localisé de surface (1) d'une pièce industrielle à traiter (2) comprenant un système de mise en dépression (6) de la chambre de traitement (5) et du circuit d'alimentation et de vidange (22, 23) permettant l'alimentation, respectivement la vidange, de la chambre...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GMUR, Daniel, VANHEE, Luc
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Station de traitement localisé de surface (1) d'une pièce industrielle à traiter (2) comprenant un système de mise en dépression (6) de la chambre de traitement (5) et du circuit d'alimentation et de vidange (22, 23) permettant l'alimentation, respectivement la vidange, de la chambre grâce, lors de ladite mise en dépression, à l'aspiration de fluide de traitement à travers le circuit d'alimentation et de vidange (22, 23) depuis les cuves de stockage (3A, 3B, 3C, 3D, ...) jusqu'à la chambre de traitement (5), respectivement grâce, lors de la mise à pression atmosphérique du circuit d'alimentation et de vidange (22, 23), au retour par gravité du fluide de traitement vers les cuves de stockage (3A, 3B, 3C, 3D, ...). A station for localized surface treatment of an industrial workpiece to be treated includes: at least one treatment chamber having a cell or two half-cells, each cell or half-cell delimiting a tight space between walls of the cell or half-cell and a respective portion or face of the industrial workpiece, the cell or each half-cell having a wall having an opening for covering a corresponding portion or face of the industrial workpiece, the opening of the cell or half-cell being delimited by a continuous sealing gasket, the cell or each half-cell including positioning means, the at least one treatment chamber having a supply and emptying circuit; and a plurality of storage vats each containing a treatment fluid, the supply and emptying circuit connecting each storage vat to the at least one treatment chamber so as to supply the at least one treatment chamber with respective treatment fluids.