DIFFUSER MATERIAL MADE OF SYNTHETICALLY PRODUCED QUARTZ GLASS, METHOD FOR PREPARING A SHAPED BODY MADE FULLY OR PARTIALLY FROM SAME

Ein bekanntes Diffusormaterial aus synthetisch erzeugtem, Poren enthaltendem Quarzglas hat eine chemischen Reinheit von mindestens 99,9% SiO 2 , einen Cristobalitgehalt von höchstens 1 % und eine Dichte im Bereich von 2,0 bis 2,18 g/cm 3 . Um davon ausgehend ein in Bezug auf diffuse Reflektivität mi...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Nuernberg, Frank, Donelon, Matthew, Franz, Bernhard, Goetzendorfer, Andreas, Klett, Ursula, Scheich, Gerrit, Tscholitsch, Nadine
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Ein bekanntes Diffusormaterial aus synthetisch erzeugtem, Poren enthaltendem Quarzglas hat eine chemischen Reinheit von mindestens 99,9% SiO 2 , einen Cristobalitgehalt von höchstens 1 % und eine Dichte im Bereich von 2,0 bis 2,18 g/cm 3 . Um davon ausgehend ein in Bezug auf diffuse Reflektivität mit Lambertschem Verhalten über einen breiten Wellenlängenbereich, hohe Materialhomogenität sowie UV-Strahlenbeständigkeit verbessertes Diffusormaterial anzugeben, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Quarzglas einen Hydroxylgruppengehalt im Bereich von mindestens 200 Gew.-ppm aufweist und dass mindestens 80% der Poren eine maximale Porenabmessung von weniger als 20 µm aufweisen. A diffuser material of synthetically produced, pore-containing quartz glass and a method for the manufacture of a molded body consisting fully or in part thereof. The diffuser material has a chemical purity of at least 99.9% SiO2, a cristobalite content of not more than 1%, and a density in the range of 2.0 to 2.18 g/cm3. Starting therefrom, to indicate a diffuser material which is improved with respect to diffuse reflectivity with Lambertian behavior over a wide wavelength range, high material homogeneity and UV radiation resistance, the quartz glass has a hydroxyl group content in the range of at least 200 wt. ppm and at least 80% of the pores have a maximum pore dimension of less than 20 μm.