Method for producing a SPM probe with a sampling tip and adjustment aid opposite the sampling tip

The method involves prefabricating a support unit (2) with a cantilever (3), and producing a scanning tip (4) and a mark (8) on the cantilever in a self-aligning manner by using a particle-beam-induced material deposition based on a gas-induced process. An etch masking layer is applied on a front side and a rear side of a silicon wafer, and a local masking is produced on the front side of the silicon wafer. Another local mashing is produced in the rear side of the silicon wafer, and the thickness of the wafer is reduced to a predetermined thickness of the cantilever. An independent claim is also included for a scanning probe microscope-probe comprising a support unit and a cantilever. Die Erfindung betrifft eine SPM-Sonde (1) bestehend aus einem Halteelement (2), einem Federbalken (3) und einer Abtastspitze (4), die vorteilhafterweise auf der der Abtastspitze (4) gegenüberliegenden Oberseite (7) des Federbalkens (3) eine Markierung (8) enthält. Die Markierung (8) auf der Oberseite (7) des Federbalkens (3) ist exakt der Abtastspitze (4) auf der Unterseite (6) des Federbalkens (3) gegenüberliegend angeordnet. Damit kann die exakte Position der Abtastspitze (4) im Rastersondenmikroskop von der nach oben weisenden Oberseite (7) des Federbalkens (3) lokalisiert werden, was die Justierung der SPM-Sonde (1) wesentlich vereinfacht.