Glass substrate coated with thin films and method of manufacturing same

The substrate has a conductive layer with thickness ranging between 200 and 1000 nanometers, and an upper layer with refraction index ranging between 1.45 and 2.2. Thickness of the upper layer ranges between 5 and 300 nanometers, where substrate and a stack of thin layers are arranged in such a manner that the light transmission value between 450 and 850 nanometers is higher than 70 percentage. The stack of thin layers comprises a sub-layer made of titanium oxide. An additional layer is placed on the upper layer. An intermediate layer is placed between the sub-layer and the conductive layer. An independent claim is also included for a method for fabrication of a substrate. Il est décrit un substrat transparent de type verrier revêtu d'un empilage de couches minces, constituant en particulier un substrat conducteur pour cellules solaires, en particulier pour cellules photovoltaïques, ainsi qu'un procédé de fabrication d'un tel substrat. L'empilage de couches minces comporte au moins - une couche conductrice dont l'épaisseur est comprise entre 200 et 1000 nm - une couche supérieure dont l'indice de réfraction est compris entre 1.45 et 2.2 et dont l'épaisseur est comprise entre 5 et 300 nm. Le substrat et l'empilage sont tels que la valeur de Transmission entre 450 et 850 nm moins le haze est supérieure à 70 %, voire 75%. Les substrats décrits combinent de manière surprenante des propriétés électriques et optiques contradictoires : une conductivité électrique élevée, la présente d'une couche tampon et une transmission lumineuse et solaire élevée.