Arc detection system, plasma power supply and arc detection method

The method involves monitoring a parameter (KG) of a plasma process in a plasma for identification of developed arc discharges. A counter measure is carried out for suppressing arc discharges after an identification. A variable time lag (t1) is maintained after ending the counter measure and an arc...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ZAEHRINGER, GERHARD, NITSCHKE, MORITZ
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:The method involves monitoring a parameter (KG) of a plasma process in a plasma for identification of developed arc discharges. A counter measure is carried out for suppressing arc discharges after an identification. A variable time lag (t1) is maintained after ending the counter measure and an arc discharge is identified after function of the variable time lag. Another counter measure is carried out for suppressing arc discharges. Independent claims are also included for the following: (1) an arc discharge treatment device for identifying the arc discharges during a plasma process (2) a plasma power supply unit for supplying a plasma process. Beschrieben ist ein Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen in einem Plasmaprozess (PP), bei dem zum Erkennen auftretender Bogenentladungen in dem Plasma eine Kenngröße (KG) des Plasmaprozesses überwacht wird und bei dem nach Erkennen einer Bogenentladung eine erste Gegenmaßnahme zum Unterdrücken von Bogenentladungen durchgeführt wird. Das Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass nach Beendigung der ersten Gegenmaßnahme während einer variablen Verzögerungszeit (t1) abgewartet und anschließend die Kenngröße erneut überprüft wird und dass in dem Fall, dass nach Ablauf der variablen Verzögerungszeit (t1) eine Bogenentladung erkannt wird, eine zweite Gegenmaßnahme zum Unterdrücken von Bogenentladungen durchgeführt wird.