USE OF SACRIFICIAL MASKING LAYER AND BACKSIDE EXPOSURE IN FORMING OPENINGS THAT TYPICALLY RECEIVE LIGHT-EMISSIVE MATERIAL, AND ASSOCIATED LIGHT-EMITTING STRUCTURE

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Hauptverfasser: HAVEN, DUANE, A, PORTER, JOHN, D, LEARN, ARTHUR, J
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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