Dram cell capacitor and method for manufacturing the same

A DRAM cell capacitor is provided wherein a capacitor bottom electrode (110a) has an HSG (Hemi-Spherical Grain) layer (115) formed thereon so as to increase capacitance of the capacitor. In the DRAM cell capacitor, the capacitor bottom electrode (110a) has an angled shape at a top edge thereof, and...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HAN, MIN-SEOG, SHIN, JIUL, LEE, HYUNG-SEOK, NAM, SEOK-WOO
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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