Sputtering target and method for its manufacturing

Es sind Targets für die Kathodenzerstäubung auf Basis von heißgepreßtem oder isostatisch heißgepreßtem Indiumoxid/Zinnoxid-Pulver mit einer Dichte von mindestens 95 % der theoretischen Dichte und mit einem unterstöchiometrischen Sauerstoffgehalt bekannt. Um hiervon ausgehend ein Target anzugeben, da...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHOELZ, FRIEDHOLD, SCHIELKE, JOERG, LUPTON, DAVID FRANCIS, GOY, KARL-HEINZ, BOHMEIER, HANS, SEROLE, BERNARD
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	ARTIFICIAL STONE BASIC ELECTRIC ELEMENTS CABLES CEMENTS CERAMICS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDINGMATERIALS COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSESC01D OR C01F CONCRETE CONDUCTORS DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL INORGANIC CHEMISTRY INSULATORS LIME, MAGNESIA METALLURGY REFRACTORIES SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING ORDIELECTRIC PROPERTIES SLAG SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TREATMENT OF NATURAL STONE
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