Deposition of layers at high specific electric conductivity

Beschrieben wird ein Verfahren zur Abscheidung Metall enthaltender Schichten hoher spezifischer elektrischer Leitfähigkeit unter Zersetzung metallorganischer Verbindungen in wasserstoffhaltiger Gas- oder Dampfphase mittels eines Plasmas. Dabei wird unter Aufnahme eines OES-Spektrums die Energiedicht...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	MUELLER, JOERG, HAMERICH, ANDREAS, LOTTERMOSER, LARS, DOELLEIN, GUENTHER
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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