Apparatus for holding substrates

Vorrichtung zum Halten von im wesentlichen ebenen Substraten (1) während eines Beschichtungsverfahrens, wie beispielsweise einem Sputter-, Aufdampf- oder CVD-Verfahren, bestehend aus einem mindestens zweiteiligen Substrathalter, wobei ein vorderer Teil (4) des Substrathalters die zur Beschichtungsquelle hingerichtete Substratoberfläche maskenartig abdeckt und ein zweiter rückseitiger Teil des Substrathalters (8) auf der der Beschichtungsquelle abgewandten Rückseite des Substrats vorgesehen ist und eine folienartige, elastische Maske (6) mit dem vorderen Substrathalter verbunden ist und die Kontur der Maske so ausgeformt ist, daß der Maskenrand den Substrathalter in einem vorzugsweise parallelen Abstand überragt, die Maske durch den Substrathalter in einem Winkel (δ) auf die zu beschichtenden Oberfläche (10) des Substrats geführt ist und der über den Substrathalter hinausragende Maskenrand auf die Oberseite des Substrats andrückbar ist. Apparatus for holding essentially flat substrates (1) during a coating process, such as a sputtering, vapour-deposition or CVD process, comprising an at least two-part substrate holder. A front part (4) of the substrate holder shields the substrate surface which is directed towards the coating source in the fashion of a mask and a second rear part (8) of the substrate holder is provided on the rear side of the substrate, which is remote from the coating source. A film-like, elastic mask (6) is joined to the front substrate holder and the contour of the mask is shaped in such a way that the mask edge projects beyond the substrate holder at a preferably parallel distance. The mask is routed through the substrate holder at an angle ( delta ) onto that surface (10) of the substrate, which is to be coated, and the mask edge which projects beyond the substrate holder can be pressed against the top of the substrate.