Process for deposition of adherent metallic, ceramic or carbon layers on temperature-sensitive materials

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung haftfester metallischer oder keramischer Schichten sowie haftfester Kohlenstoffschichten auf temperaturempfindlichen Materialien mittels einer kathodischen Vakuumbogenverdampfung. In einem Einstufenprozeß wird der Anfangsdruck der kathodischen Vak...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: VETTER, JOERG NAT, SCHMIDTBAUER, SVEN, KUEHN, MICHAEL, ROTHER, BERND NAT
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung haftfester metallischer oder keramischer Schichten sowie haftfester Kohlenstoffschichten auf temperaturempfindlichen Materialien mittels einer kathodischen Vakuumbogenverdampfung. In einem Einstufenprozeß wird der Anfangsdruck der kathodischen Vakuumbogenbeschichtung so eingestellt, daß die mittlere freie Weglänge für den Transport der Ionen des Kathodenmaterials zum Substrat größer als die Hälfte des Abstandes von der Kathode zum Substrat ist. Im weiteren Verlauf der Beschichtung wird der Druck auf Werte erhöht, welche einer mittleren freien Weglänge von weniger als dem halben Abstand zwischen der Kathode und dem Substrat entsprechen. The invention relates to a process for depositing strongly adhesive metallic or ceramic layers and strongly adhesive carbon layers on temperature-sensitive materials by means of cathodic vacuum arc evaporation. In a one-stage process, the initial pressure of the cathodic vacuum arc coating process is set in such a way that the mean free path for conveying the cathode material ions to the substrate is greater than half the distance from the cathode to the substrate. In the further course of coating, the pressure is raised to values which correspond to a mean free path of less than half the distance between the cathode and the substrate.