Radiation polymerisable mixture and process for the preparation of a solder stop mask

Es wird ein durch Strahlung polymerisierbares Gemisch beschrieben, das a) eine Verbindung mit mindestens einer radikalisch polymerisierbaren Gruppe, b) ein wasserunlösliches, in wäßrigalkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel, c) ein feinteiliges mineralisches Pigment auf Kieselsäure- bzw...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHUETZE, GERALD, DECKER, RUDOLF, DI, LINGNAU, JUERGEN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PRINTED CIRCUITS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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