WIRING BOARD

A wiring board having a reliable and cheaply fabricated wiring circuit which can be easily formed in a fine form enabling the semiconductor devices to be more densely integrated in further reduced thickness, reduced size and at reduced cost, the wiring board capable of being sealed in a plastic package. A thin dielectric film (2) is formed on the surface of a metal plate (1), and a semiconductor element (8) is mounted on the surface of the dielectric (2) or on the exposed surface of the metal plate (1). On the dielectric (2), thin multilayered wiring films (3), (4) and (5) are formed by sequential vapor deposition of a conductor layer of aluminum; an adhesive layer of chromium, or titanium or a laminate thereof; a diffused barrier layer of nickel, or copper or laminate thereof; and a corrosion preventing/wire-bonding layer of gold. The wiring may comprise an adhesive layer of any one of chromium, aluminum or titanium, or a laminate thereof, a conductor layer of copper and a gold layer that are formed in the order mentioned, or may comprise a conductor layer of aluminum, a barrier layer of nickel and a gold layer formed in the order mentioned. The thin-film wiring can be finely formed with ease enabling the wiring conductors to be highly densely fabricated. Moreover, the wiring composed of aluminum or copper can be cheaply formed. L'invention se rapporte à un tableau de connexions avec circuit de cablâge fiable et fabriqué à faibles coûts, qui peut être facilement produit dans une forme fine, permettant ainsi une intégration plus dense des dispositifs à semi-conducteur avec une réduction encore plus grande de l'épaisseur, de la taille et des coûts, le tableau de connexions pouvant être scellé dans un boîtier en plastique. A cet effet, un mince film diélectrique (2) est formé sur la surface d'une plaque de métal (1) et un élément semi-conducteur (8) est monté sur la surface du diélectrique (2) ou sur la surface découverte de la plaque de métal (1). On forme sur le diélectrique (2) de minces films de connexions multicouches (3, 4 et 5) en déposant séquentiellement en phase vapeur une couche conductrice d'aluminium, une couche adhésive de chrome ou de titane ou d'un stratifié de ceux-ci, une couche barrière diffuse de nickel ou de cuivre ou d'un stratifié de ceux-ci, et une couche d'or à fonction anticorrosive/de soudage des connexions. Les connexions peuvent comporter une couche adhésive d'un élément choisi parmi le chrome, l'aluminium ou le titane ou d'un st