ROTATING CYLINDRICAL MAGNETRON STRUCTURE FOR LARGE AREA COATING

Des mécanismes supportent, mettent en rotation, refroidissent et actionnent une structure voulue (59, 61) à magnétron cylindrique agencée sur des supports situés à chaque extrémité de la structure. Deux conceptions spécifiques sont décrites. Des agencements particuliers (72) d'aimants sont agencés dans le cylindre que l'on veut utiliser. Deux cylindres rotatifs adjacents peuvent être utilisés le cas échéant afin d'augmenter la vitesse de déposition du matériau pulvérisé sur un substrat. Les différentes caractéristiques de l'invention sont particulièrement adaptées à un magnétron cylindrique de grandes dimensions utilisé pour pulvériser des revêtements sur des parois de verre en architecture, sur des pare-brises d'automobiles et similaires, mais se prêtent également avec avantage au revêtement de substrats de dimensions réduites. Mechanisms for supporting, rotating, cooling and energizing a cylindrical target structure in a magnetron through supports at each end of the target structure. Two specific configurations are described. Particular arrangements of magnets are provided within the target cylinder. Two adjacent rotating target cylinders may optionally be employed in order to increase the rate of depositing sputtered material on a substrate. The various features of this invention are particularly adapted for a large-scale cylindrical magnetron used for sputtering coatings on architectural glass panels, automobile windshields and the like, but are also advantageous for use in coating very small substrates.