SYSTEM FOR CONTROLLING THE AMOUNT OF SUBSTITUTING LASER GAS

A laser gas in a discharge tube (51) is substituted by an exhaust pump (7) maintaining a predetermined substitution quantity for a predetermined period of time immediately after the excitation. In the subsequent period of operation, the laser gas is substituted at a rate smaller than the predtermined rate of substitution. The small rate of substitution may be smaller than one-tenth the predetermined rate of substitution required for a predetermined period of time immediately after the excitation and the laser gas is consumed in small amounts. Le système décrit sert à réguler la quantité de gaz à laser de substitution dans un dispositif laser à gaz excité par décharge. Un gaz à laser contenu dans un tube à décharge (51) est remplacé au moyen d'une pompe d'évacuation (7) maintenant une quantité de substitution prédéterminée pendant une période prédéterminée immédiatement après l'excitation. Dans la période de fonctionnement suivante, le gaz à laser est substitué selon un débit inférieur au débit de substitution prédéterminé. Le faible débit de substitution peut être inférieur à un dixième du débit de substitution prédéterminé requis pour une période prédéterminée immédiatement après l'excitation, et le gaz à laser est consommé en petites quantités.