FOCAL PLANE ADJUSTED PHOTOMASK AND METHODS OF PROJECTING IMAGES ONTO PHOTOSENSITIZED WORKPIECE SURFACES

En utilisant une imprimante par projection (11), des photomasques (22) dont les tracés (21) sont protégés par une plaque de couverture (39) sont utilisés de manière interchangeable avec d'autres photomasques, dont les tracés sont situés sur une surface ouverte. Les photomasques (22) présentent...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BANKS, EDWARD, LAWRENCE, ELLINGTON, THOMAS, SETTLE, IV, ZAVECZ, TERRENCE, EDWARD
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	En utilisant une imprimante par projection (11), des photomasques (22) dont les tracés (21) sont protégés par une plaque de couverture (39) sont utilisés de manière interchangeable avec d'autres photomasques, dont les tracés sont situés sur une surface ouverte. Les photomasques (22) présentent des cales de réglage (46) qui écartent les tracés (21) d'un plan des surfaces de support (13) d'un mandrin de montage (12) d'une distance précise égale à l'éloignement du plan de l'objet (14) par rapport à un plan d'image (17), à cause de la présence de la plaque de couverture (9) dans le chemin optique de l'imprimante par projection (11).