Process and apparatus for depositing upon a substrate a thin layer of a compound comprising at least one cationic and at least one anionic component

L'invention a pour objet un procédé de dépôt sur un substrat d'une couche mince d'un composé comportant au moins un constituant cationique C et au moins un constituant anionique A, tel que du sulfure de zinc. On forme sur le substrat (11) au moins deux couches ioniques superposées comportant respectivement le ou lesdits constituants cationiques C et le ou lesdits constituants anioniques A par immersions successives du substrat dans une première solution (3) contenant par example un sel de C tel que du sulfate de zinc et dans une deuxième solution (3') contenant par exemple un sel de A tel que du sulfure de sodium, en effectuant un rinçage du substrat (en 5) entre deux immersions. The invention relates to a process for the depositing on a substrate a thin film or layer of a compound having at least one cationic constituent C and at least one anionic constituent A, such as zinc sulphide. On the substrate are formed at least two superimposed ionic layers respectively incorporating the said cationic constituent or constituents C and the said anionic constituent or constituents A by successively immersing the substrate in a first solution e.g. containing a salt of C, such as zinc sulphate and in a second solution eg containing a salt of A, such as sodium sulphide, while rinsing the substrate between two immersion operations.