PLANAR BIAXIAL MICROPOSITIONING STAGE

Plateau de micropositionnement pouvant être monolithique et comprenant une première structure (2) montée de manière concentrique à l'intérieur d'une seconde structure (1) et coplanaire avec celle-ci. Ces deux structures sont faites essentiellement de châssis et de bras de levier pivotants...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	SCIRE, FREDRIC E
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOTDIRECTED TO A PARTICULAR RESULT CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g.ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY GENERATION MACHINE TOOLS MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OFPARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS PERFORMING OPERATIONS PHYSICS TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Plateau de micropositionnement pouvant être monolithique et comprenant une première structure (2) montée de manière concentrique à l'intérieur d'une seconde structure (1) et coplanaire avec celle-ci. Ces deux structures sont faites essentiellement de châssis et de bras de levier pivotants (6, 7, 8, 25, 26, 35) qui répondent à une force linéaire provenant des transducteurs piézoélectriques (3, 4) pour déplacer un objet (36) placé sur une plate-forme (37) dans deux directions différentes dont l'une peut être perpendiculaire à l'autre. La présente invention se caractérise particulièrement par le fait qu'elle permet un mouvement biaxial d'un objet dans une unité pratiquement plate et planaire. Dans un mode de réalisation, la présente invention est monolithique dans le sens que c'est une structure unitaire simple, exception faite des éléments transducteurs piézoélectriques.