Process for the preparation of 2-chloro-1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropane

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur selektiven Herstellung von 2-Chlor-1,1,1,2,3,3,3-heptafluorpropan. Dabei wird 1,1,1,2,3,3,3-Heptafluorpropan in der Gasphase mit elementarem Chlor in Gegenwart von energiereicher Strahlung bei Reaktionstemperaturen im Bereich von -30 bis +500°C umgesetzt. A p...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: VON HALASZ, SIGMAR-PETER
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur selektiven Herstellung von 2-Chlor-1,1,1,2,3,3,3-heptafluorpropan. Dabei wird 1,1,1,2,3,3,3-Heptafluorpropan in der Gasphase mit elementarem Chlor in Gegenwart von energiereicher Strahlung bei Reaktionstemperaturen im Bereich von -30 bis +500°C umgesetzt. A process for the selective preparation of 2-chloro-1,1,1,2,3,3,3- heptafluoropropane. In this process, 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropane is reacted in the gas phase with elemental chlorine in the presence of energy-rich radiation at reaction temperatures in the range from -30 to +500 DEG C.