METHOD FOR PREVENTING SHORT CIRCUIT BETWEEN METAL LINES IN ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE

Предложен способ предотвращения короткого замыкания между металлическими дорожками в дисплее на органических светодиодах. Способ включает в себя формирование неорганического слоя на подложке; формирование металлического слоя, содержащего две металлические дорожки, на неорганическом слое; формировани...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: KO, Kai-Yuan
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Предложен способ предотвращения короткого замыкания между металлическими дорожками в дисплее на органических светодиодах. Способ включает в себя формирование неорганического слоя на подложке; формирование металлического слоя, содержащего две металлические дорожки, на неорганическом слое; формирование органического слоя на двух металлических дорожках; формирование слоя оксида индия-олова на органическом слое; нанесение покрытия фоторезистивного слоя; выполнение этапа экспонирования фоторезистивного слоя с помощью фотошаблона, имеющего прозрачную область, непрозрачный материал, расположенный в прозрачной области, при этом ширина непрозрачного материала меньше ширины прозрачной области; выполнение этапа проявления фоторезистивного слоя и выполнение этапа травления для удаления части слоя оксида индия-олова и части органического слоя. Настоящее изобретение может предотвратить короткое замыкание между металлическими дорожками. Disclosed is a method for preventing a short circuit between metal wires in an organic light emitting diode display device. The method includes: forming an inorganic layer on a substrate; forming a metal layer including two metal wires on the inorganic layer; forming an organic layer on the two metal wires; forming an indium tin oxide layer on the organic layer; coating a photoresist layer; performing an exposure step by utilizing a photo mask having a transparent area, an opaque material disposed in the transparent area, wherein a width of the opaque material is less than a width of the transparent area; performing a development step to the photoresist layer; and performing an etching step to remove a part of the indium tin oxide layer and a part of the organic layer. The present invention can prevent the short circuit between the metal wires.