Siliziumdioxid-Grundmaterial für Zahnputzmittel und Verfahren zu dessen Herstellung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SHINPO, SHOZO, HYOGO, JP, FUSHINO, TETSUO, TAKASAGO, HYOGO, JP, OHTSU, SHOZO, KAKOGAWA, HYOGO, JP, HACHIJO, AKIHIRO, KOBE, HYOGO, JP
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMISTRY COMPOUNDS THEREOF HUMAN NECESSITIES HYGIENE INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OFSOLID INORGANIC COMPOUNDS INORGANIC CHEMISTRY MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE METALLURGY NON-METALLIC ELEMENTS PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL, OR TOILET PURPOSES SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETPREPARATIONS
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