BESCHICHTUNGSMITTEL, HARZTEIL UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR

Beschichtungsmittel mit: einer filmbildenden Komponente, die eine Organosiliciumverbindung mit einer radikalisch polymerisierbaren funktionellen Gruppe und einer Alkoxysilylgruppe enthält; und einer filmhärtenden Komponente, die so zusammengesetzt ist, dass beim Bestrahlen mit ultraviolettem Licht e...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Isobe, Motoshige, Muramatsu, Hisashi, Sato, Sayako, Munekata, Hidenori, Sasaki, Ayano, Arimitsu, Koji
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	ADHESIVES CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS CHEMISTRY COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS CORRECTING FLUIDS DYES FILLING PASTES INKS LAYERED PRODUCTS LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT ORNON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING PERFORMING OPERATIONS POLISHES TRANSPORTING USE OF MATERIALS THEREFOR WOODSTAINS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Beschichtungsmittel mit: einer filmbildenden Komponente, die eine Organosiliciumverbindung mit einer radikalisch polymerisierbaren funktionellen Gruppe und einer Alkoxysilylgruppe enthält; und einer filmhärtenden Komponente, die so zusammengesetzt ist, dass beim Bestrahlen mit ultraviolettem Licht eine Base und ein Radikal erzeugen werden kann. Die filmhärtende Komponente beinhaltet einen nicht-ionischen Photobasengenerator, der keine ionische Bindung in der Molekularstruktur aufweist. Der Gehalt des nicht-ionischen Photobasengenerators beträgt 0,1 Massenteile oder mehr und 50 Massenteile oder weniger, bezogen auf 100 Massenteile der Organosiliciumverbindung. A coating agent has: a film-forming component containing an organosilicon compound having a radical polymerizable functional group and an alkoxysilyl group; and a film-curing component composed so that a base and a radical can be generated on irradiation with ultraviolet light. The film-curing component includes a nonionic photobase generator having no ionic bond in the molecular structure. The content of the nonionic photobase generator is 0.1 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the organosilicon compound.