SUSZEPTORANORDNUNG, MOCVD-EINRICHTUNG, WELCHE DIESE UMFASST, UND STEUERVERFAHREN ZUM ABLADEN EINES OBEREN SUSZEPTORS VON EINER MOCVD-EINRICHTUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Suszeptoranordnung und eine MOCVD-Einrichtung, welche diese umfasst, in der eine zweischichtige Struktur, die einen oberen Suszeptor und einen unteren Suszeptor umfasst, eine Temperaturabweichung an einer Auflagefläche verringert.Eine Suszeptoranordnung gemäß...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Cho, Kwang II, Kim, Nam Seo, Park, Byeong Ik, Jang, Jong Jin, Choi, Sung Chul, Suh, Dong Sik
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DEVICES USING STIMULATED EMISSION DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die vorliegende Erfindung betrifft eine Suszeptoranordnung und eine MOCVD-Einrichtung, welche diese umfasst, in der eine zweischichtige Struktur, die einen oberen Suszeptor und einen unteren Suszeptor umfasst, eine Temperaturabweichung an einer Auflagefläche verringert.Eine Suszeptoranordnung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung umfasst: einen oberen Suszeptor, der eine Auflagefläche aufweist, die konfiguriert ist, in Kontakt mit einem Substrat zu stehen, um das Substrat zu tragen; und einen unteren Suszeptor, der konfiguriert ist, den oberen Suszeptor zu tragen, wobei der obere Suszeptor und der untere Suszeptor mit unterschiedlichen Materialtypen beschichtet sind.Die Suszeptoranordnung und die diese umfassende MOCVD-Einrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung verringern die Ungleichmäßigkeit der Temperatur an der Auflagefläche zum Tragen des Substrats, wodurch das Aufwachsen einer Dünnschicht mit besserer Gleichmäßigkeit auf dem Substrat ermöglicht wird und bei der Herstellung eines Elements unter Verwendung des durch einen MOCVD-Prozess aufgewachsenen Substrats eine hohe Ausbeute erhalten wird. The present invention relates to a susceptor assembly and an MOCVD apparatus comprising same, wherein the susceptor assembly reduces temperature deviation on a support plane by means of a two-layer structure of an upper susceptor and a lower susceptor. A susceptor assembly, according to one embodiment of the present invention, comprises: an upper susceptor having a support plane which is in contact with a substrate and supports the substrate; and a lower susceptor for supporting the upper susceptor, wherein the upper susceptor and the lower susceptor are coated with different types of materials. The susceptor assembly and the MOCVD apparatus comprising same, of the present invention, reduce temperature ununiformity on the support plane which supports the substrate, thereby enabling a thin film having more uniform characteristics to grow on the substrate, and can achieve a high yield when manufacturing a device, by means of using a substrate grown by an MOCVD process.