Lithografisches Verfahren

Ein Verfahren zum Vorhersagen einer Ablenkung eines Pellikels, die während der Bewegung des Pellikels in einer Lithografie-Vorrichtung auftreten wird, wobei das Verfahren das Empfangen von Parametern bezüglich der Eigenschaften des Pellikels und das Empfangen von Parametern bezüglich der erwarteten Bewegung des Pellikels beinhaltet. Die Parameter werden auf ein Modell angewendet, das die Ablenkung des Pellikels als Funktion dieser Parameter vorhersagt. Das Modell beinhaltet eine Vielzahl von Teilmodellen, die sich auf verschiedene Komponenten der Ablenkung des Pellikels beziehen. Eine Ausgabe des Modells kann verwendet werden, um einen lithografischen Fehler, der mit der vorhergesagten Ablenkung des Pellikels assoziiert ist, vorherzusagen und zu reduzieren. A method of predicting deflection of a pellicle which will occur during movement of the pellicle in a lithographic apparatus, the method including receiving parameters regarding properties of the pellicle and receiving parameters regarding the expected movement of the pellicle. The parameters are applied to a model which predicts deflection of the pellicle as a function of those parameters. The model includes a plurality of sub-models which relate to different components of deflection of the pellicle. An output of the model may be used to predict.