HALBLEITERVORRICHTUNG UND PRODUKTIONSVERFAHREN FÜR EINE HALBLEITERVORRICHTUNG
Halbleitervorrichtung (100), die Folgendes umfasst: ein Halbleitersubstrat (110); einen Gate-Isolationsfilm (120), der auf dem Halbleitersubstrat bereitgestellt ist; eine Gate-Elektrode-Schicht (130), die auf dem Gate-Isolationsfilm bereitgestellt ist und Fremdstoffionen beinhaltet; und Source- und...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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