HALBLEITERVORRICHTUNG UND PRODUKTIONSVERFAHREN FÜR EINE HALBLEITERVORRICHTUNG

Halbleitervorrichtung (100), die Folgendes umfasst: ein Halbleitersubstrat (110); einen Gate-Isolationsfilm (120), der auf dem Halbleitersubstrat bereitgestellt ist; eine Gate-Elektrode-Schicht (130), die auf dem Gate-Isolationsfilm bereitgestellt ist und Fremdstoffionen beinhaltet; und Source- und...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Yanagisawa, Yuki, Futatsuki, Takashi
Format: Patent
Sprache:ger
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