VERFAHREN ZUR BEWERTUNG EINER SILICIUMSCHICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SILICIUMEPITAXIEWAFERS

Verfahren zur Bewertung einer Siliciumschicht, wobei das Verfahren umfasst:Bildung eines Oxidfilms auf einer Oberfläche einer Siliciumschicht;Durchführen einer Aufladungsbehandlung zum Aufladen einer Oberfläche des gebildeten Oxidfilms auf eine negative Ladung; undMessung des spezifischen Widerstand...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Samata, Shuichi, Makise, Sayaka, Miyazaki, Sumio, Mitsugi, Noritomo
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES TESTING
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