Wafergruppe, Waferherstellungsvorrichtung und Waferherstellungsverfahren

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer Wafergruppe, die das Sicherstellen einer Einheitlichkeit von Produkten erleichtert, die aus der Wafergruppe hergestellt worden sind, deren Zusammensetzung zwischen Wafern variiert, und eine weitere Aufgabe ist die Bereitstellung einer Technik des Ausschließens von Unsicherheitsfaktoren bei der Bildung einer OF, wobei die OF mit einer extrem hohen Wahrscheinlichkeit und einer extrem hohen Genauigkeit gebildet wird, wobei die Wafergruppe aus einer Mehrzahl von Wafern aufgebaut ist, die von demselben Block erhalten worden sind, wobei alle Wafer eine Orientierungsabflachung (OF) aufweisen, wobei die Wafergruppe aus 70 oder mehr Wafern aufgebaut ist, und bezüglich der OF-Orientierungsgenauigkeit der Wafergruppe, die durch einen Winkel dargestellt ist, die OF-Orientierungsgenauigkeit in jedem Wafer innerhalb von ±0,010° liegt. A wafer group facilitates securing uniformity of products manufactured from the wafer group whose composition varies among wafers. A technique excludes uncertain factors in forming OF, forming OF with extremely high probability and extremely high accuracy, the wafer group being constituted by a plurality of wafers obtained from the same ingot, with all wafers having an orientation flat (OF), wherein the wafer group is constituted by 70 or more wafers, and in the OF orientation accuracy of the wafer group represented by an angle, the OF orientation accuracy in each wafer is within ±0.010°.