Beschichtungsstruktur, Wärmetauscher und Verfahren zur Herstellung eines Wärmetauschers

Eine Beschichtungsstruktur umfasst eine Basis (1), die aus Metall hergestellt ist, eine Grundschicht (2), die auf der Basis bereitgestellt ist; und einen Isolierfilm (3), der auf der Grundschicht (2) bereitgestellt ist. Der Isolierfilm (3) umfasst mehrere Schichten (31, 32), wobei jede Schicht der m...

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Hauptverfasser: Tomisaka, Manabu, Kafuku, Kazuaki, Tera, Ryonosuke, Sano, Yukihiro, Hayashi, Takayuki
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Eine Beschichtungsstruktur umfasst eine Basis (1), die aus Metall hergestellt ist, eine Grundschicht (2), die auf der Basis bereitgestellt ist; und einen Isolierfilm (3), der auf der Grundschicht (2) bereitgestellt ist. Der Isolierfilm (3) umfasst mehrere Schichten (31, 32), wobei jede Schicht der mehreren Schichten (31, 32) aus einem anderen Material ist, wobei die mehreren Schichten abwechselnd miteinander geschichtet sind. Die Grundschicht wird durch ein anderes Verfahren als ein Beschichtungsverfahren unter Verwendung einer chemischen Oberflächenreaktion, die auf der Basis stattfindet, bereitgestellt, und ein Teil der Grundschicht, die in Berührung mit der Basis ist, ist amorph. Wenn ein Fremdmaterial auf der Basis haftet, kann das Fremdmaterial dementsprechend durch die Grundschicht abgedeckt werden. Da der Isolierfilm auf der Grundschicht bereitgestellt wird, kann die Ausbildung von Defekten des Isolierfilms, die durch das Fremdmaterial verursacht wird, begrenzt werden. A coating structure includes a base made of metal, a foundation layer provided on the base, and an insulation film provided on the foundation layer. The insulation film includes a plurality of layers, each layer of the plurality of layers being different in material, the plurality of layers being layered alternately with each other. The foundation layer is provided by a method other than a coating method using a surface chemical reaction occurring on the base, and a part of the foundation layer in contact with the base is amorphous. According to this, when a foreign material adheres on the base, the foreign material can be covered by the foundation layer. Since the insulation film is provided on the foundation layer, forming defects of the insulation film caused by the foreign material can be limited.