Negativresistzusammensetzungen und multifunktionelle Polymere darin

Es wird eine Negativresistzusammensetzung bereitgestellt, welche einen freien Photosäuregenerator und ein multifunktionelles Polymer enthält, welches kovalent an eine Photosäure-Erzeugungseinheit gebunden ist, wobei die Zusammensetzung im Wesentlichen frei von Vernetzungsmitteln ist. Es werden auch...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Sundberg, Linda Karin, Domon, Daisuke, Masunaga, Keiichi, Sooriyakumaran, Ratnam, Kawai, Yoshio, Bozano, Luisa, Dominica, Sanchez, Martha, Inez, Sanders, Daniel Paul, Watanabe, Satoshi
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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