Negativresistzusammensetzungen und multifunktionelle Polymere darin

Es wird eine Negativresistzusammensetzung bereitgestellt, welche einen freien Photosäuregenerator und ein multifunktionelles Polymer enthält, welches kovalent an eine Photosäure-Erzeugungseinheit gebunden ist, wobei die Zusammensetzung im Wesentlichen frei von Vernetzungsmitteln ist. Es werden auch...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Sundberg, Linda Karin, Domon, Daisuke, Masunaga, Keiichi, Sooriyakumaran, Ratnam, Kawai, Yoshio, Bozano, Luisa, Dominica, Sanchez, Martha, Inez, Sanders, Daniel Paul, Watanabe, Satoshi
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Es wird eine Negativresistzusammensetzung bereitgestellt, welche einen freien Photosäuregenerator und ein multifunktionelles Polymer enthält, welches kovalent an eine Photosäure-Erzeugungseinheit gebunden ist, wobei die Zusammensetzung im Wesentlichen frei von Vernetzungsmitteln ist. Es werden auch multifunktionelle Polymere bereitgestellt, welche in Verbindung mit der Resistzusammensetzung von Nutzen sind, sowie ein Verfahren zum Erzeugen eines Resistbildes auf einem Substrat unter Verwendung der Zusammensetzungen und Polymere der vorliegenden Erfindung. A negative-tone resist composition is provided that contains a free photoacid generator and a multifunctional polymer covalently bound to a photoacid-generating moiety, where the composition is substantially free of cross-linking agents. Multifunctional polymers useful in conjunction with the resist composition are also provided, as is a process for generating a resist image on a substrate using the present compositions and polymers.