Systeme und Verfahren zur Bestimmung der Eignung von RF-Quellen in Ultraviolett-Systemen

Ein UV-System zur Bestrahlung eines Substrates, welches aufweist:- eine RF-Quelle, die zur Generierung der RF-Energie eingerichtet ist;- eine UV-Lampe, die dazu eingerichtet ist, UV-Energie abzustrahlen, wenn diese von der RF-Energie, die von der RF-Quelle generiert wird, angeregt ist;- einen Monitor, der mit der RF-Quelle gekoppelt ist, wobei der Monitor dazu eingerichtet ist, Daten in Bezug auf einen Betriebszustand der RF-Quelle zu generieren; und- eine Steuerungseinheit, die dazu eingerichtet ist, zu ermitteln, ob die RF-Quelle dazu geeignet ist, mit dem UV-System betrieben zu werden,wobei der Monitor und/oder die Steuerungseinheit dazu eingerichtet sind, basierend auf den Daten des Monitors zu detektieren, dass der Betriebszustand der RF-Quelle einen definierten Maximalwert überschreitet, und einen Zähler zu inkrementieren in Antwort auf eine Detektion, dass der Betriebszustand der RF-Quelle den definierten Maximalwert überschreitet, undwobei die Steuerungseinheit dazu eingerichtet ist, zu bestimmen, ob die RF-Quelle zum Betrieb mit dem UV-System geeignet ist, basierend auf dem Wert des Zählers. A UV system for irradiating a substrate includes a RF source capable of generating RF energy, a UV lamp capable of emitting UV energy when excited by the RF energy generated by the RF source, and a monitor coupled to the RF source. The monitor includes data relating to the RF source. The UV system further includes a controller capable of communication with the monitor, and the controller determines if the RF source is suitable for operation with the UV system based on the data of the monitor and/or the end of its useful life.