Halbleiterwaferinspektionsvorrichtung und Halbleiterwafer-Inspektionsverfahren

Die vorliegende Erfindung stellt eine Halbleiterwaferinspektionsvorrichtung und ein Halbleiterwaferinspektionsverfahren bereit, das eine Ausdehnung in einem Halbleiterwafer aufgrund eines Temperaturunterschiedes zwischen der Montagefläche eines Tisches und dem Halbleiterwafer unterdrücken kann. In e...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Takahashi, Takenori, Yamaguchi, Akira, Motoyama, Takashi, Shigesawa, Yuji, Ishimoto, Takashi
Format: Patent
Sprache:ger
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