Beschichtete Schneidplatte und Verfahren zum Herstellen einer beschichteten Schneidplatte

Beschichtete Schneidplatte und Verfahren zum Herstellen einer beschichteten Schneidplatte

Beschichtete Schneidplatte (20), umfassend:ein Substrat (22) mit einer Substratoberfläche (24, 26);ein Trägerbeschichtungsschema auf der Substratoberfläche (24, 26); undein TiAl2O3-Aluminiumoxid-Beschichtungsschema umfassend abwechselnde Beschichtungsschichten aus TiAl2O3und Al2O3, wobei die TiAl2O3...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Liu, Yixiong, Cooper, Rodrigo A, Leicht, Peter R, Liu, Zhenyu, Greenfield, Mark S
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:Beschichtete Schneidplatte (20), umfassend:ein Substrat (22) mit einer Substratoberfläche (24, 26);ein Trägerbeschichtungsschema auf der Substratoberfläche (24, 26); undein TiAl2O3-Aluminiumoxid-Beschichtungsschema umfassend abwechselnde Beschichtungsschichten aus TiAl2O3und Al2O3, wobei die TiAl2O3-Beschichtungsschichten durch chemische Gasphasenabscheidung aus einer gasförmigen Zusammensetzung abgeschieden sind, die AlCl3, H2, TiCl4, CO2und HCl aufweist, und wobei Körner des TiAl2O3-Aluminiumoxid-Beschichtungsschemas TiAl2O3-Korninnenbereiche und Al2O3-Korninnenbereiche umfassen. A coated cutting insert and a method for making the same. The coated cutting insert has a substrate with a substrate surface. There is a backing coating scheme on the substrate surface, and a TiAl2O3 coating layer wherein the TiAl2O3 coating layer is deposited using chemical vapor deposition from a gaseous composition including AiCl3, H2, TiCl4, CO2 and HCl.