Vorrichtung und Verfahren zur Entfernung von Verunreinigungen

Eine Substrat-Trockenreinigungsvorrichtung, eine Substrat-Trockenreinigungsanlage und ein Verfahren zur Reinigung eines Substrats werden offenbart. Die Substrat-Trockenreinigungsanlage umfasst einen Substratträger und einen Generator für eine reaktive Spezies. Der Generator für eine reaktive Spezies umfasst eine erste Rohrleitung, die einen ersten Strömungskanal definiert, der zum Auslass der ersten Rohrleitung verläuft, wobei der Auslass der ersten Rohrleitung dem Substratträger zugewandt ist; eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode, die der ersten Elektrode zugewandt ist, wobei der erste Strömungskanal zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet ist; eine erste inerte Wand, die zwischen der ersten Elektrode und dem ersten Strömungskanal angeordnet ist; und eine zweite inerte Wand, die zwischen der zweiten Elektrode und dem ersten Strömungskanal angeordnet ist. A substrate dry cleaning apparatus, a substrate dry cleaning system, and a method of cleaning a substrate are disclosed. The substrate dry cleaning system includes a substrate support and a reactive species generator. The reactive species generator includes a first conduit defining a first flow channel that extends to an outlet of the first conduit, the outlet of the first conduit facing the substrate support, a first electrode, a second electrode facing the first electrode, the first flow channel disposed between the first electrode and the second electrode, a first inert wall disposed between the first electrode and the first flow channel, and a second inert wall disposed between the second electrode and the first flow channel.